專注高端精密劃片機
研發(fā)、生產(chǎn)、咨詢、銷售
當一塊12英寸晶圓在博捷芯BJX8160劃片機中完成切割時,0.0001mm的定位精度讓MiniLED背光模組實現(xiàn)無縫拼接——這標志著國產(chǎn)設(shè)備首次在COB封裝核心工藝上達到國際一流水準。曾幾何時,ASM、DISCO等國際巨頭壟斷著90%的高端劃片機市場,而今天,中國制造的精密劃片機正以400%的效率提升和60%的成本優(yōu)勢,重構(gòu)全球COB封裝產(chǎn)業(yè)格局。 COB封裝的技術(shù)壁壘與國產(chǎn)化困境 COB封裝技術(shù)將LED芯片直接綁定在基板上...
劃片機(Dicing Saw)在半導體制造中主要用于將晶圓切割成單個芯片(Die),這一過程在內(nèi)存儲存卡(如NAND閃存芯片、SSD、SD卡等)的生產(chǎn)中至關(guān)重要。以下是劃片機在存儲芯片制造中的關(guān)鍵應(yīng)用和技術(shù)細節(jié):1. 劃片機的基本作用晶圓切割:將完成光刻、蝕刻等工藝的晶圓切割成獨立的存儲芯片單元。高精度要求:存儲芯片(如NAND、DRAM)的電路密度極高,切割精度需達到微米(μm)級,避免損傷電路結(jié)構(gòu)。材料適配...
一、技術(shù)革新:微米級精度與智能化生產(chǎn)BJCORE劃片機以1μm切割精度和0.0001mm定位精度為核心技術(shù)優(yōu)勢,在半導體、光電等領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)突破。其12寸劃片機采用進口高精度配件,T軸重復精度達1μm,雙CCD視覺系統(tǒng)確保切割路徑精準無誤。針對Mini/Micro LED等高端應(yīng)用,設(shè)備支持無膜切割技術(shù),避免材料損傷,顯著提升良品率。在自動化方面,博捷芯獨創(chuàng)的MIP專機與BJX8160精密劃片機實現(xiàn)全自動上下料,兼容天車、AGV...
國產(chǎn)精密劃片機在光模塊芯片(COC/COB)切割領(lǐng)域已實現(xiàn)多項技術(shù)突破,并在實際生產(chǎn)中展現(xiàn)出以下核心能力與技術(shù)優(yōu)勢:一、技術(shù)性能與工藝創(chuàng)新?高精度切割?國產(chǎn)設(shè)備通過微米級無膜切割技術(shù)實現(xiàn)?1μm切割精度?,定位精度達?0.0001mm?,滿足光模塊芯片對切割深度和邊緣平整度的嚴苛要求,尤其適用于Mini/Micro LED的MIP全自動切割場景?。激光切割技術(shù)可避免對晶體硅表面損傷,適用于厚度低于30μm的晶圓切割?。?...
劃片機分層劃切工藝介紹?一、?定義與核心原理?分層劃切工藝是一種針對硬脆材料(如硅晶圓、陶瓷)的精密切割技術(shù),通過分階段控制切割深度和進給速度,減少材料損傷并提高切割質(zhì)量。其核心原理是通過“階梯式”分層切割方式,逐步完成切割深度的控制?。二、?工藝流程與關(guān)鍵技術(shù)?開槽劃切(首次切割)?采用較小的進給深度(通常為總切割深度的10%~30%),通過高速旋轉(zhuǎn)的金剛石刀片進行初步開槽。作用?:降低刀具受力、減少切...
精密劃片機在切割陶瓷基板中的應(yīng)用場景廣泛,憑借其高精度、高效率、低損傷的核心優(yōu)勢,深度服務(wù)于多個關(guān)鍵領(lǐng)域。以下是其典型應(yīng)用場景及技術(shù)特點分析:一、半導體與電子封裝領(lǐng)域陶瓷芯片制造LED基板切割:氧化鋁陶瓷基板因優(yōu)異的導熱性和絕緣性被用于LED芯片。精密劃片機(如BJX6366)可實現(xiàn)微米級切割精度,確保芯片尺寸一致性,避免熱應(yīng)力導致的性能下降。功率器件封裝:IGBT、MOSFET等器件需通過陶瓷基板散...
國產(chǎn)精密劃片機頭部企業(yè)博捷芯的核心技術(shù)突破主要體現(xiàn)在以下領(lǐng)域:一、關(guān)鍵工藝突破?切割精度提升?實現(xiàn)微米級無膜切割技術(shù),切割精度達1μm,設(shè)備定位精度達0.0001mm?57,尤其在Mini/Micro LED領(lǐng)域首創(chuàng)MIP全自動切割解決方案,精準控制切割深度?。?自動化系統(tǒng)創(chuàng)新?國內(nèi)首家推出全自動上下料系統(tǒng),兼容天車、AGV等多種物料傳輸方式,支持工廠無人值守生產(chǎn),生產(chǎn)效率提升400%?。二、材料兼容性突破?半導體材料擴展...
半導體精密劃片機在光電子器件制造中扮演著至關(guān)重要的角色,其高精度、高效率與多功能性為光通信、光電傳感等領(lǐng)域帶來了革命性的技術(shù)突破。一、技術(shù)特性:微米級精度與多維適配精度突破劃片機可實現(xiàn)微米級(甚至納米級)切割精度。例如博捷芯系列設(shè)備,在切割QFN封裝基板時,尺寸偏差可控制在30μm以下,預設(shè)切割偏移量低于5μm,確保光電器件邊緣無崩裂、無熱損傷。材料兼容性支持硅、石英、玻璃、陶瓷、藍寶石等脆性材料切割,...
138-2371-2890